脫羥工藝有三種形式:①在空氣中進(jìn)行煅燒,因?yàn)榭諝庵泻,所以只能清除亞穩(wěn)定羥基,脫羥裝備可采用隧道窯,推板窯或者箱式電爐,電加熱,最高溫度1000℃,脫羥后殘留穩(wěn)定性羥基含量在20×10-6左右;②在脫羥爐中通高純N2[N2經(jīng)過提純,含水量為(1~2)×10-6],脫羥設(shè)備可采用推板式電爐和箱式電爐,爐門必須密閉,爐子底部留有進(jìn)N2口,爐子頂部留有出N2口,整個(gè)脫羥過程不斷送入高純N2。最高溫度1100℃;③真空脫羥采用擴(kuò)散泵抽真空,真空度為5×10-3Pa,采用分子泵抽真空,真空度可達(dá)1×10-4Pa,爐子性能見下表。
產(chǎn)品型號(hào) |
爐內(nèi)尺寸/mm |
最高溫度/℃ |
溫度均勻性/℃ |
極限真空度/Pa |
熱態(tài)真空度/Pa |
L651211-11/ZM |
Φ200×300 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L651211-13/ZM |
Φ300×400 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L12700/ZM |
400×400×600 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L12111-10/ZM |
610×610×1000 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L12111-18/ZM |
700×700×1000 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L12111-14/ZM |
700×800×1600 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
L12111-37/ZM |
800×1000×3300 |
1200 |
±5 |
5×10-4 |
5×10-3 |
分子泵 |
350×350×500 |
1200 |
±5 |
5×10-5 |
5×10-4 |
羥基檢測設(shè)備:采用傅里葉變換紅外光譜儀,型號(hào)WQF-310/410,測量精度≤1×10-6。
脫羥溫度與時(shí)間如下:
(1)在空氣中煅燒脫羥:可將石英玻璃中亞穩(wěn)定羥基清楚,脫羥目的為解決在封接石英玻璃是氣泡不會(huì)長大,脫羥或羥基含量將到20×10-6左右,脫羥溫度950℃,保溫時(shí)間1-2h。產(chǎn)品適用于鹵鎢等制造。
(2)充N2脫羥工藝:脫羥溫度950~1050℃,保溫時(shí)間15~20h或更長,羥基含量可降到(6~8)×10-6,產(chǎn)品適用于汞燈制造。
(3)真空脫羥工藝:脫羥溫度1050~1150℃,保溫時(shí)間15~20h或更長,羥基含量可降到(1~3)×10-6或<1×10-6,產(chǎn)品可用于金屬鹵化物燈制造。
脫羥時(shí)間常常會(huì)使產(chǎn)品變色,主要是因?yàn)槭⒉AцF含量太高的緣故。
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