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      熔制法制備非線性光學玻璃
       發(fā)布時間:2012年06月30日 瀏覽:2559

      用于制備均質(zhì)玻璃、均質(zhì)微晶玻璃和摻雜玻璃。由于重金屬氧化物與玻璃形成氧化物密度的差異,融化過程中會引起熔體的分層;另外,重金屬有較強的滲透性,對一般坩堝侵蝕性大,使鉑坩堝中毒。因此,在熔制的過程中需采用攪拌措施并利用特種坩堝。均質(zhì)微晶玻璃的制備需要采用特殊的熱處理方法,以使晶體定向生長。二次熔融法是先將玻璃原料熔制成玻璃,,然后將半導體粉末或金屬微粒和玻璃粉末混合均勻,在真空或保護氣氛中進行二次熔融,從而制得摻雜玻璃。一般制備均質(zhì)非線性光學玻璃均采用熔制法。用熔制法制備摻雜半體玻璃時,半導體化合物易分解而揮發(fā),且較難控制微晶濃度、尺寸大小及分布均勻性。用此法制備摻雜金屬玻璃則必須采用低熔點玻璃及基礎(chǔ)玻璃成分,如摻Au要求氧化氣氛并摻SnO2,摻Ag要求中性氣氛并摻微量Sb2O3、摻Cu要求還原氣氛。

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