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      新聞詳情

      合成石英玻璃的概述
       發(fā)布時間:2012年10月17日 瀏覽:2897
      人造合成石英玻有不同的制造工藝,用途不同生產(chǎn)工藝就不同。合成石英玻璃坨的制造工藝可分為:CVD(化學氣相沉積)、VAD(氣相軸向沉積法)、PCVD(等離子化學氣相沉積)。光纖制造用合成石英玻璃制造工藝分為:OVD(管外氣相沉積)、IVD(管內(nèi)氣相沉積)等。與水晶熔煉石英玻璃相比,合成石英玻璃在性能上有很大不同:

      1、  高遠紫外透過:采用氣相沉積合成石英玻璃具有很寬的紫外透過率范圍,10mm厚的合成石英玻璃在190nm處透過率≥80%。這是因為該類石英玻璃具有很低的金屬離子含量,一般金屬雜質(zhì)總含量小于3×10-6,適宜做紫外光學器件,如:比色皿、光掩;。

      2、  高光學均勻性:合成石英玻璃沉積過程是納米級水合二氧化硅微粉在高溫下沉積而成的,顆粒結(jié)構(gòu)很小,各向分布均勻,光學均勻性高。對于50mm的玻璃鏡片其光學均勻性可達到10-5~10-6,這是水晶熔煉石英玻璃所不能到達的,適宜做高級光學鏡頭、通訊光纖等。

      3、  優(yōu)質(zhì)的耐輻照性能:氫氧焰合成石英玻璃具有很高的耐輻照性能,這是因為它的金屬雜質(zhì)含量低,羥基含量高。可經(jīng)受大劑量γ射線或中子射線輻照而不變色?捎米龊教旃鈱W器件。

      但合成石英玻璃也有其性能不足:由于該類石英玻璃羥基含量很高,所以在2.73μm處有很大吸收峰,影響其紅外光學性能;同時也導致玻璃的耐熱性能下降。不過,PCVD(等離子化學氣相沉積)工藝制作石英玻璃不存在上述問題,它采用無氫火焰,具有很低的羥基含量,可全光譜透過(190~3000nm),是理想的石英玻璃材料。


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